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LPCVD

产品与技术


简介

      凭借来自世界各地技术专家的努力,理想能源在短短一年的时 间内就研发出在玻璃基板上沉积透明导电氧化物膜(Transparent Conductive Oxide, TCO)的低压化学气相沉积设备(LPCVD)。该设备已有八台用在硅基薄膜太阳电池生产线 上沉积电池的前后导电层。实际的生产数据表明:该设备开机率达90%以上,产品良率达 98%。该设备代表了此类技术的世界先进水平,在2011年获上海浦东科技进步奖,2012年 获上海科学技术奖。

运行中的LPCVD设备

LPCVD技术

       TCO膜是指用物理或化学的方法在玻璃或其它基板表面均匀沉积一层透明的导电氧化物膜 (Transparent Conductive Oxide)。应用在太阳能光伏领域的TCO玻璃是指镀了TCO膜的 平板玻璃,TCO玻璃主要用作薄膜太阳能电池的前基板(电极),它的性能对于薄膜太阳 能电池的最终转换率有着相当大的影响。TCO膜一般具有透光性,导电性及减反射等功能 。理想能源的LPCVD设备是采用低压化学气相沉积(LPCVD)的工艺在玻璃上沉积掺硼的氧 化锌薄膜(ZnO:B)。


      用理想能源的设备沉积的TCO膜有以下优点:

  • 生产成本低:每平方米生产成本低于12元人民币。
  • 透光性好:所镀的掺硼的氧化锌膜的透光性可高于85%。
  • 导电性好:方块电阻可在7-20欧姆之间调整。
  • 雾度高:可在25%-50%之间调整。

世界领先的LPCVD设备

       秉承世界先进的设计理念,理想能源大胆地将应用在半导体精密设备的技术及工艺创造性 地引入到LPCVD设备的研发与设计中来,使该设备在技术上处于世界领先水平。该设备目 前就拥有国家22项发明及实用新型专利。


      该设备有如下优点:

  • 设备生产成本低:较低的设备及备品备件价 格、创新二级Hottrap设计及高达98%的良品率使每平方米BZO膜的镀膜综合成本(COO)低 至       12元人民币;
  • 设备产能高:创新的加热源及加热器设计加 上稳定的综合表现(开机率>90%),使单机设备的产能达到世界领先水平;
  • 安全性能高:采用小型蒸发气罐设计,设备中所存的易燃气体 少,大大提高生产现场的安全性;
  • 可随客户要求灵活定制:软件控制系统为自行开发,可根据客 户的要求高度订制,对于客户在使用过程中的改进要求也可以迅速响应。

应用

       硅基薄膜太阳能电池的前后电极:

       LPCVD技术及设备在硅基薄膜太阳能电池生产领域的应用已经十分成熟,客户的实践证明:用LPCVD设备来生产电池的前后电极是提高电池效率和降低电池生产成本的有效途径。

       CIGS薄膜太阳能电池的前电极:

       已通过大量的试验证明,在用共蒸镀法及硒化法工艺生产CIGS薄膜太阳能电池的产线上,用LPCVD设备沉积的BZO完全可以取代用PVD制备的AZO前电极。这样不仅可以极大节省成本,还可以提高转换效率。

       LED的透明导电层:

       目前LED透明导电层的制备普遍采用的工艺方法是采用电子束蒸镀沉积ITO,由于铟(ITO的主要原料)的成本不断上涨,用LPCVD设备沉积的BZO膜取代用PVD溅射的ITO膜可以大量降低LED成本。经过大量实验证明,用BZO取代ITO在工艺上完全可行。

售后服务及配套

       经验丰富的国内工程师团队使理想能源可以在短短30天内完成设备组装、设备调试及工艺调试等流程,极大地缩短了用户的投产前准备时间。对于现有客户,理想能源除提供低价优质的备品备件、低成本高效率的零部件清洗解决方案外,还提供完善、快速的7 x 24小时售后服务,使客户能有效降低运营成本。