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MOCVD简介

产品与技术


MOCVD技术简介

金属有机物化学气相沉淀技术(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD),是一项制备化合物半导体单晶薄膜的技术。主要用于发光二极管的制造,MOCVD设备是光电子行业关键设备,用MOCVD 技术进行外延生长是制造外延片的核心步骤。



MOCVD工艺步骤:

n型氮化镓生长

量子阱层生长

p型氮化镓生长

MOCVD生长工艺要求极高:

高温 > 1100 C°

极高的热均匀性和反应气体的流量均匀性

精确控制化学物质的配比

减少副反应发生

理想公司MOCVD设备

公司于2010年下半年开始MOCVD设备研发,理想能源设备的单腔体和全自动多腔体MOCVD集成设备都将于2011年下半年推出。


理想能源公司的MOCVD设备将为我们的客户带来更多获益:

具有多种机型供客户选择:单一机台以及全自动机台组系统

最高的工业量产效率及最低的成本消耗

友好的用户操作界面及灵活的菜单管理系统

独创的预热工艺腔体尽可能减少客户的工艺时间

与客户紧密合作,使客户机台利用率最大化

一流的售后服务与技术支持,以客户满意为最高宗旨